Product detail

SIMS TOF-LEIS depth profilometer with nanometer depth resolution

PRŮŠA, S. BÁBOR, P. KOLÍBAL, M. DUDA, R. ŠIKOLA, T.

Czech title

SIMS TOF-LEIS hloubkový profilometr s nanometrovým rozlišením

English title

SIMS TOF-LEIS depth profilometer with nanometer depth resolution

Type

Functioning sample

Language

cs

Original abstract

Zařízení SIMS a TOF-LEIS slouží k analýze povrchů a tenkých vrstev. Unikátnost zařízení spočívá především v tom, že kromě standardních způsobů měření umožňuje střídavé profilování metodami SIMS a TOF-LEIS ve stejném místě vzorku. Zařízení využívá k analýze dvou iontových svazků s energiemi v intervalu 0,2 – 5 keV. Složení vrstev v závislosti na hloubce (hloubkový profil) je měřen pomocí iontů odprášených z povrchu pomocí dopadajícího iontového svazku (metoda SIMS). Kromě odprášených iontů jsou k analýze využívány odražené částice od analyzovaného vzorku (metoda TOF-LEIS). Součástí tohoto zařízení je autorský software zajišťující koordinaci obou metod.

English abstract

SIMS and TOF-LEIS instrument is intended for analysis of surfaces and thin films. Besides standard modes of analysis it can be used for alternate depth profiling with both mentioned methods which option made this instrument unique. Instrument employs two ion beams with energies in the range from 0.2 keV to 5 keV. The beam for producing of sputtered ions (SIMS – Secondary Ion Mass Spectrometry) and the second one for ion scattering on the surface (TOF-LEIS Time of Flight Low Energy Ion Scattering). Both types of produced particles bring information about depth composition of analyzed sample. A part of this instrument is software enabling cooperation between both methods.

Keywords in Czech

Hloubkové profilování, SIMS, TOF, LEIS, tenké vrstvy; in situ analýza

Keywords in English

Depth profiling, SIMS, TOF, LEIS, thin films; in situ analysis

Create date

2008-12-20

Location

A2/518

BIBTEX


@misc{BUT69958,
  author="Stanislav {Průša} and Petr {Bábor} and Miroslav {Kolíbal} and Radek {Duda} and Tomáš {Šikola}",
  title="SIMS TOF-LEIS hloubkový profilometr s nanometrovým rozlišením",
  year="2008",
  url="http://www.physics.fme.vutbr.cz/",
  note="Functioning sample"
}