Product detail

Methodology of surface contamination measurement I

BÁBOR, P. POTOČEK, M.

Czech title

Metodologie měření povrchové kontaminace I

English title

Methodology of surface contamination measurement I

Type

Other

Language

cs

Original abstract

Metodologie kontroly čistoty povrchů optických krystalů pro zakřivené optické povrchy umožňuje optimalizovat výrobu optických krystalů a dalších optických prvků, z hlediska čistoty povrchu, která má zásadní vliv nejen na optické parametry výrobků (transmisivita, odolnost při vysokých světelných výkonech). Umožňuje sledovat čistotu krystalů mezi jednotlivým technologickými kroky.

English abstract

The methodology of controlling the surface cleanliness of optical crystals for curved optical surfaces allows to optimize the production of optical crystals and other optical elements in terms of surface cleanliness, which has a significant impact not only on the optical parameters of products (transmissivity, resistance at high light output). It allows to monitor the crystal purity between each technological step. Translated with DeepL.com (free version)

Keywords in Czech

analýza kontaminace, SIMS, LEIS, XPS, optická povrchy

Keywords in English

contamination analysis, SIMS, LEIS, XPS, optical surfaces

Create date

2024-12-31

Location

Ceitec nano - sdílené laboratoře

BIBTEX


@misc{BUT197489,
  author="Petr {Bábor} and Michal {Potoček}",
  title="Metodologie měření povrchové kontaminace I",
  year="2024"
}