Detail produktu
Metodologie měření povrchové kontaminace I
BÁBOR, P. POTOČEK, M.
Český název
Metodologie měření povrchové kontaminace I
Anglický název
Methodology of surface contamination measurement I
Typ
Ostatní
Jazyk
cs
Originální abstrakt
Metodologie kontroly čistoty povrchů optických krystalů pro zakřivené optické povrchy umožňuje optimalizovat výrobu optických krystalů a dalších optických prvků, z hlediska čistoty povrchu, která má zásadní vliv nejen na optické parametry výrobků (transmisivita, odolnost při vysokých světelných výkonech). Umožňuje sledovat čistotu krystalů mezi jednotlivým technologickými kroky.
Anglický abstrakt
The methodology of controlling the surface cleanliness of optical crystals for curved optical surfaces allows to optimize the production of optical crystals and other optical elements in terms of surface cleanliness, which has a significant impact not only on the optical parameters of products (transmissivity, resistance at high light output). It allows to monitor the crystal purity between each technological step. Translated with DeepL.com (free version)
Klíčová slova česky
analýza kontaminace, SIMS, LEIS, XPS, optická povrchy
Klíčová slova anglicky
contamination analysis, SIMS, LEIS, XPS, optical surfaces
Datum vzniku
2024-12-31
Umístění
Ceitec nano - sdílené laboratoře
BIBTEX
@misc{BUT197489,
author="Petr {Bábor} and Michal {Potoček}",
title="Metodologie měření povrchové kontaminace I",
year="2024"
}