Publication detail

A plasmatic ion source optimalisation for direct deposition of thin films

VOBORNÝ, S. ZLÁMAL, J.

Czech title

Optimalizace plazmatického iontového zdroje pro přímou depozici tenkých vrstev

English title

A plasmatic ion source optimalisation for direct deposition of thin films

Type

Paper in proceedings (conference paper)

Language

cs

Original abstract

Optimalizace plazmatického iontového zdroje pro přímou depozici tenkých vrstev

English abstract

An optimalization of plasmatic ion source for direct deposition of thin films and layers.

Keywords in English

Ion source

Released

2000-12-05

Publisher

Vutium

Location

Brno

Book

II. sborník příspěvků doktorandů, konference u příležitosti 100. výročí založení FSI

Pages from–to

353–

Pages count

4

BIBTEX


@inproceedings{BUT4508,
  author="Stanislav {Voborný} and Jakub {Zlámal}",
  title="Optimalizace plazmatického iontového zdroje pro přímou depozici tenkých vrstev",
  booktitle="II. sborník příspěvků doktorandů, konference u příležitosti 100. výročí založení FSI",
  year="2000",
  pages="4",
  publisher="Vutium",
  address="Brno"
}