Detail publikace

Optimalizace plazmatického iontového zdroje pro přímou depozici tenkých vrstev

VOBORNÝ, S. ZLÁMAL, J.

Český název

Optimalizace plazmatického iontového zdroje pro přímou depozici tenkých vrstev

Anglický název

A plasmatic ion source optimalisation for direct deposition of thin films

Typ

Stať ve sborníku v databázi WoS či Scopus

Jazyk

cs

Originální abstrakt

Optimalizace plazmatického iontového zdroje pro přímou depozici tenkých vrstev

Anglický abstrakt

An optimalization of plasmatic ion source for direct deposition of thin films and layers.

Klíčová slova anglicky

Ion source

Vydáno

2000-12-05

Nakladatel

Vutium

Místo

Brno

Kniha

II. sborník příspěvků doktorandů, konference u příležitosti 100. výročí založení FSI

Strany od–do

353–

Počet stran

4

BIBTEX


@inproceedings{BUT4508,
  author="Stanislav {Voborný} and Jakub {Zlámal}",
  title="Optimalizace plazmatického iontového zdroje pro přímou depozici tenkých vrstev",
  booktitle="II. sborník příspěvků doktorandů, konference u příležitosti 100. výročí založení FSI",
  year="2000",
  pages="4",
  publisher="Vutium",
  address="Brno"
}