Detail produktu

Vysoceodrazná vrstva na substrátu ve specifikaci R >= 98,5 % @ 248 nm a R >= 98 % @ 213 nm pro úhel dopadu 45

PEKAŘ, V. BŘEZINA, J. ŠKODA, D. OHLÍDAL, I. VOHÁNKA, J. FRANTA, D. FRANTA, P. DVOŘÁK, J. OHLÍDAL, M. ŠULC, V. KLAPETEK, P. HAVLÍČEK, M.

Český název

Vysoceodrazná vrstva na substrátu ve specifikaci R >= 98,5 % @ 248 nm a R >= 98 % @ 213 nm pro úhel dopadu 45

Anglický název

High reflection coating on the glass substrate within two specifications R >= 98,5% @ 248 nm for angle of incidence 45, and R >= 98% @ 213 nm for angle of incidence 45

Typ

Funkční vzorek

Jazyk

cs

Originální abstrakt

Realizace vysoce odrazných vrstev splňující požadavky na odrazivost ve vlnových délkách hluboké ultrafialové oblasti a to 213 nm nebo 248 nm. Vrstvy pro vlnovou délku 213 nm byly připraveny technologií magnetronového naprašování kombinací materiálů Al2O3 a SiO2. Vrstvy pro vlnovou délku 248 nm byly připraveny technologií magnetronového naprašování kombinací materiálů HfO2 a SiO2. Parametry odrazivosti dosahují hodnot R(213 nm) > 99,5 % , R(248 nm) > 98,9 %.

Anglický abstrakt

Implementation of highly reflective layers fitting the requirements for reflectivity in the wavelengths of the deep ultraviolet region, namely 213 nm or 248 nm. The layers for the wavelength of 213 nm were prepared by magnetron sputtering technology using a combination of Al2O3 and SiO2 materials. The layers for the wavelength of 248 nm were prepared by magnetron sputtering using a combination of HfO2 and SiO2 materials. The reflectance parameters reach the values R (213 nm) > 99.5 %, R (248 nm) > 99.3 %.

Klíčová slova anglicky

DUV coating; DUV HR coating; PARMS technology; Magnetron sputtering

Datum vzniku

2021-12-31

Umístění

Meopta – optika, s.r.o. Kabelíkova 2682/1 750 02 Přerov

BIBTEX


@misc{BUT182572,
  author="Václav {Pekař} and Jaromír {Březina} and David {Škoda} and Ivan {Ohlídal} and Jíří {Vohánka} and Daniel {Franta} and Pavel {Franta} and Jan {Dvořák} and Miloslav {Ohlídal} and Václav {Šulc} and Petr {Klapetek} and Marek {Havlíček}",
  title="Vysoceodrazná vrstva na substrátu ve specifikaci R >= 98,5 % @ 248 nm a R >= 98 % @ 213 nm pro úhel dopadu 45",
  year="2021",
  note="Functioning sample"
}