Detail publikace
In situ plošné monitorování optických parametrů tenkých vrstev
URBÁNEK, M. SPOUSTA, J. ŠIKOLA, T. ZLÁMAL, J. CHMELÍK, R. HARNA, Z. JIRUŠE, J. JÁKL, M.
Český název
In situ plošné monitorování optických parametrů tenkých vrstev
Anglický název
In situ Monitoring of Thin Film Optical Parameters
Typ
Článek recenzovaný mimo WoS a Scopus
Jazyk
cs
Originální abstrakt
V článku je popsáno využití zařízení pro in situ monitorování homogenity optických parametrů pomocí spektroskopické interferometrie. K detekci odraženého světla je použita kombinace CCD kamery a vláknového spektrometru. Provedená ex situ měření ukázala použitelnost této metody ke sledování růstu tenkých slabě absorbujících vrstev přímo v průběhu jejich depozice.
Anglický abstrakt
In the paper the basic principles of an instrument for the monitoring of areal homogenity of thickness and optical properties of thin films developed in the Institute of Physical Engineering at Brno University of Technology are reported. A special attention is paid ti applications of the instrument for in situ experiments carried out in a high-vacuum etching and deposition apparaturus IBAD
Klíčová slova anglicky
IBAD, homogenity, thin films
Vydáno
2001-04-01
ISSN
0447-6441
Časopis
Jemná mechanika a optika
Ročník
46
Číslo
4
Strany od–do
143–
Počet stran
3
BIBTEX
@article{BUT40057,
author="Stanislav {Voborný} and Michal {Urbánek} and Tomáš {Šikola} and Jakub {Zlámal} and Radim {Chmelík} and Zdeněk {Harna} and Jaroslav {Jiruše} and Miloš {Jákl}",
title="In situ plošné monitorování optických parametrů tenkých vrstev",
journal="Jemná mechanika a optika",
year="2001",
volume="46",
number="4",
pages="3",
issn="0447-6441"
}