Detail publikace
Využití termální desorpční spektroskopie při studiu povrchové kontaminace
POTOČEK, M. BÁBOR, P. ŠIKOLA, T.
Český název
Využití termální desorpční spektroskopie při studiu povrchové kontaminace
Anglický název
Application of thermal desorption spectroscopy for surface contamination investigation
Typ
Článek recenzovaný mimo WoS a Scopus
Jazyk
cs
Originální abstrakt
V článku je popsán teoretický základ termální desorpční spektroskopie a její realizace v laboratoři povrchů a tenkých vrstev. Dále je uvedeno použití této metody při studiu kontaminace Si desek.
Anglický abstrakt
Theoretical basics of thermal desorption spectroscopy and its realization in the Surfaces and Thin Films Laboratory is presented. As an example of application of this method a study of contamination of Si wafer is reported.
Klíčová slova česky
Termální desorpční spektroskopie, TDS; desorpce; adsorpce
Klíčová slova anglicky
Thermal desorption spectroscopy, TDS; desorption; adsorption
Vydáno
2009-09-01
ISSN
0447-6441
Časopis
Jemná mechanika a optika
Ročník
54
Číslo
7-8
Strany od–do
217–218
Počet stran
2
BIBTEX
@article{BUT46796,
author="Michal {Potoček} and Petr {Bábor} and Tomáš {Šikola}",
title="Využití termální desorpční spektroskopie při studiu povrchové kontaminace",
journal="Jemná mechanika a optika",
year="2009",
volume="54",
number="7-8",
pages="217--218",
issn="0447-6441"
}