Detail publikace

OISF pattern and grown-in precipitates in heavily boron doped silicon

VÁLEK, L. LYSÁČEK, D. ŠIK, J.

Anglický název

OISF pattern and grown-in precipitates in heavily boron doped silicon

Typ

Článek recenzovaný mimo WoS a Scopus

Jazyk

en

Vydáno

2007-04-21

ISSN

0013-4651

Časopis

Journal of the Electrochemical Society

Ročník

154

Číslo

10

Strany od–do

904–909

BIBTEX


@article{BUT50290,
  author="Lukáš {Válek} and David {Lysáček} and Jan {Šik}",
  title="OISF pattern and grown-in precipitates in heavily boron doped silicon",
  journal="Journal of the Electrochemical Society",
  year="2007",
  volume="154",
  number="10",
  pages="904--909",
  issn="0013-4651"
}