Detail publikace
Studium ultratenkých vrstevnatých struktur
JURKOVIČ, P. ŠIKOLA, T. BÁBOR, P. ČECHAL, J.
Český název
Studium ultratenkých vrstevnatých struktur
Anglický název
A Study of Ultrathin Layered Structures
Typ
Stať ve sborníku v databázi WoS či Scopus
Jazyk
cs
Originální abstrakt
Článek se zabývá využitím metody AR XPS pro analýzu chemického složení vrstvy přírodního oxidu na substrátech Si. Teorie maximální entropie byla použita při následné rekonstrukci hloubkového profilu vzorku.
Anglický abstrakt
This paper deals with AR XPS method and their application for chemical analysis of natural Silicon dioxide layers on silicon substrates. For reconstruction of concentration depth profiles a maximum entrophy theory was used.
Klíčová slova anglicky
XPS, multilayers
Vydáno
2001-11-15
Nakladatel
FEI VUT v Brně
Místo
Brno
ISBN
80-214-1992-X
Kniha
Sborník příspěvků konference Nové trendy ve fyzice
Strany od–do
364–
Počet stran
5
BIBTEX
@inproceedings{BUT6496,
author="Patrik {Jurkovič} and Tomáš {Šikola} and Petr {Bábor} and Jan {Čechal}",
title="Studium ultratenkých vrstevnatých struktur",
booktitle="Sborník příspěvků konference Nové trendy ve fyzice",
year="2001",
pages="5",
publisher="FEI VUT v Brně",
address="Brno",
isbn="80-214-1992-X"
}