Detail publikace

Deposition and in-situ charakterization of ultra-thin films

VOBORNÝ, S. KOLÍBAL, M. MACH, J. ČECHAL, J. BÁBOR, P. PRŮŠA, S. SPOUSTA, J. ŠIKOLA, T.

Anglický název

Deposition and in-situ charakterization of ultra-thin films

Typ

Článek recenzovaný mimo WoS a Scopus

Jazyk

en

Originální abstrakt

Paper deals with the deposition and in-situ charakterization of ultra-thin films

Klíčová slova anglicky

Ion beam, deposition, XPS

Vydáno

2004-01-01

ISSN

0040-6090

Časopis

Thin Solid Films

Ročník

459

Číslo

1-2

Strany od–do

17–

Počet stran

5

BIBTEX


@article{BUT42360,
  author="Stanislav {Voborný} and Miroslav {Kolíbal} and Jindřich {Mach} and Jan {Čechal} and Petr {Bábor} and Stanislav {Průša} and Jiří {Spousta} and Tomáš {Šikola}",
  title="Deposition and in-situ charakterization of ultra-thin films",
  journal="Thin Solid Films",
  year="2004",
  volume="459",
  number="1-2",
  pages="5",
  issn="0040-6090"
}