Detail publikace

Application of Complex UHV Apparaturus in a Study of Low-tepmerature Gallium-nitride Ultrathin Film Growth

VOBORNÝ, S. MACH, J. ČECHAL, J. KOSTELNÍK, P. TOMANEC, O. BÁBOR, P. SPOUSTA, J. ŠIKOLA, T.

Anglický název

Application of Complex UHV Apparaturus in a Study of Low-tepmerature Gallium-nitride Ultrathin Film Growth

Typ

Článek recenzovaný mimo WoS a Scopus

Jazyk

en

Originální abstrakt

Paper deals with the application of Complex UHV Apparaturus in a Study of Low-tepmerature Gallium-nitride Ultrathin Film Growth

Vydáno

2004-01-01

ISSN

0447-6441

Časopis

Jemná mechanika a optika

Ročník

9

Číslo

9

Strany od–do

265–

Počet stran

5

BIBTEX


@article{BUT42366,
  author="Stanislav {Voborný} and Jindřich {Mach} and Jan {Čechal} and Petr {Kostelník} and Ondřej {Tomanec} and Petr {Bábor} and Jiří {Spousta} and Tomáš {Šikola}",
  title="Application of Complex UHV Apparaturus in a Study of Low-tepmerature Gallium-nitride Ultrathin Film Growth",
  journal="Jemná mechanika a optika",
  year="2004",
  volume="9",
  number="9",
  pages="5",
  issn="0447-6441"
}