Detail publikace
Application of ToF – LEIS for Analysis of Surfaces and Ultra Thin Films
PRŮŠA, S. ŠIKOLA, T. BÁBOR, P.
Anglický název
Application of ToF – LEIS for Analysis of Surfaces and Ultra Thin Films
Typ
Stať ve sborníku v databázi WoS či Scopus
Jazyk
en
Originální abstrakt
Low Energy Ion Scattering (LEIS) belongs to a wide group of surface science analytical techniques. Low detection limit and extreme surface sensitivity are the main advantages of LEIS. Atomic composition of analysed surfaces is determined from the energy distribution of the scattered rare gas ions. Their kinetic energy can be measured by a Time-of-Flight (ToF) spectrometer. Capabilities of the ToF LEIS spectrometer will be demonstrated at analysis of gallium layers evaporated on a SiO2 substrate
Vydáno
2001-11-15
Nakladatel
FEI VUT v Brně
Místo
Brno
ISBN
80-214-1992-X
Kniha
Sborník příspěvků konference Nové trendy ve fyzice
Strany od–do
404–
Počet stran
6
BIBTEX
@inproceedings{BUT6506,
author="Stanislav {Průša} and Tomáš {Šikola} and Petr {Bábor}",
title="Application of ToF - LEIS for Analysis of Surfaces and Ultra Thin Films",
booktitle="Sborník příspěvků konference Nové trendy ve fyzice",
year="2001",
pages="6",
publisher="FEI VUT v Brně",
address="Brno",
isbn="80-214-1992-X"
}